| 種別 | 論文 |
| 主題 | アクティブ赤外線法における照射光源の影響に関する基礎的研究 |
| 副題 | |
| 筆頭著者 | 田中寿志（鉄道総合技術研究所） |
| 連名者1 | 仁平達也（鉄道総合技術研究所） |
| 連名者2 | 鳥取誠一（鉄道総合技術研究所） |
| 連名者3 | 栗田耕一（三菱重工業） |
| 連名者4 | |
| 連名者5〜 | |
| キーワード | アクティブ赤外線法、はく離検知、照射光源、キセノンランプ、active infrared thermography、irradiation device |
| 巻 | 27 |
| 号 | 1 |
| 先頭ページ | 1753 |
| 末尾ページ | 1758 |
| 年度 | 2005 |
| 要旨 | アクティブ赤外線法に用いる照射設備は，はく離検知の程度に大きな影響を及ぼす。そこで，本研究では，遠赤外線，キセノンランプ，およびハロゲンランプを用いた場合のコンクリート平板の照射試験および非定常熱伝導解析を行い，熱伝導の挙動を確認した。また，照射条件を検討するために，模擬空隙を有する供試体の非定常熱伝導解析および照射試験を行った。その結果，一定の照射間隔で繰返し照射することにより，照射エネルギー密度を従来の15kW/m2の1/3である5.0kW/m2にしてもはく離検知が可能であることを確認した。 |
| PDFファイル名 | 027-01-1286.pdf |