種別 |
論文 |
主題 |
高強度セメント硬化体への高性能減水剤とシリカフュームの影響 |
副題 |
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筆頭著者 |
佐藤正己(日本大学) |
連名者1 |
小泉公志郎(日本大学) |
連名者2 |
梅村靖弘(日本大学) |
連名者3 |
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連名者4 |
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連名者5〜 |
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キーワード |
高強度、シリカフューム、高性能減水剤、鉱物反応率、細孔径分布、CSH、ケイ酸鎖、High strength、Silica fume、Super plasticizer、Reactive rateio、Pore size distribution、CSH、Silicate anions |
巻 |
32 |
号 |
1 |
先頭ページ |
119 |
末尾ページ |
124 |
年度 |
2010 |
要旨 |
本研究は、高強度セメント硬化体の圧縮強度発現性,微細空隙構造,セメント水和反応に及ぼす高性能減水剤とシリカフュームの影響を明らかにし,シリカフュームの最適添加率を検証することを目的とした。実験は,低熱ポルトランドセメントに汎用および超高強度用高性能減水剤とシリカフュームを添加し,圧縮強度,水銀圧入ポロシメータによる細孔径分布,XRDリートベルト法による水和物組成,TMS誘導体法によるCSHのケイ酸鎖鎖長構造を測定した。その結果,高性能減水剤の種類による影響は少なく,シリカフュームの添加量は水和反応の観点から10wt%が最適であることが確認された。 |
PDFファイル名 |
032-01-1012.pdf |