| 種別 | 論文 |
| 主題 | 中性化の進行がセメントペーストの毛細管空隙構造に及ぼす影響 |
| 副題 | |
| 筆頭著者 | 石田聡史（金沢大学） |
| 連名者1 | 五十嵐心一（金沢大学） |
| 連名者2 | |
| 連名者3 | |
| 連名者4 | |
| 連名者5〜 | |
| キーワード | 中性化、反射電子像、水和度、2点相関関数、電気伝導率、空間構造、Carbonation、Backscattered electron image、Degree of hydration、Two-point correlation function、Electrical conductivity、Spatial structure |
| 巻 | 34 |
| 号 | 1 |
| 先頭ページ | 622 |
| 末尾ページ | 627 |
| 年度 | 2012 |
| 要旨 | 中性化を生じたセメントペーストの電気伝導率と粗大毛細管空隙構造の関係を検討し，中性化領域の微細組織の特徴を明らかにした。その結果，中性化領域では水和反応の進行に加えて，炭酸カルシウムが析出したことにより粗大毛細管空隙率は水中養生を行った供試体よりも低い値を示した。しかし，中性化領域の粗大毛細管空隙率の変化と電気伝導率との関係から，中性化領域の空隙充填過程は水和反応やポゾラン反応とは異なると考えられ，粗大毛細管空隙の中でも径の小さな空隙を充填し，より径の大きな空隙は残存する傾向にあることが示された。 |
| PDFファイル名 | 034-01-1096.pdf |