| 種別 | 論文 |
| 主題 | 高炉スラグ混入セメントペーストにおける中性化が毛細管空隙構造の変化に及ぼす影響 |
| 副題 | |
| 筆頭著者 | 石田聡史（金沢大学） |
| 連名者1 | 五十嵐心一（金沢大学） |
| 連名者2 | |
| 連名者3 | |
| 連名者4 | |
| 連名者5〜 | |
| キーワード | 中性化、高炉スラグ、反射電子像、粗大毛細管空隙率、電気伝導率、Carbonation、Blast furnace slag、Backscattered electron image、Coarse capillary pores、Electrical conductivity |
| 巻 | 35 |
| 号 | 1 |
| 先頭ページ | 727 |
| 末尾ページ | 732 |
| 年度 | 2013 |
| 要旨 | 高炉スラグ混入ペーストを若材齢から中性化させた際の，電気伝導特性の変化と粗大毛細管空隙構造の対応を明らかにした。その結果，高炉スラグ混入ペーストの中性化領域では高炉スラグの反応が阻害され，粗大毛細管空隙率は非常に高い値を示した。しかし，そのような多孔質の中性化領域であっても，粗大毛細管空隙率の変化と電気伝導率の関係から，伝導経路が部分的に遮断されている可能性が示唆され，このことが電気伝導率によって示される物質透過性を低下させるようである。 |
| PDFファイル名 | 035-01-1117.pdf |