種別 |
論文 |
主題 |
塩分吸着剤を添加した補修材を用いて断面修復したRC部材の補修部の自然電位に及ぼす残留塩化物イオンの影響 |
副題 |
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筆頭著者 |
風間裕也(長岡工業高等専門学校) |
連名者1 |
金安賢人(長岡工業高等専門学校) |
連名者2 |
西信衛(ネクスコ・メンテナンス新潟) |
連名者3 |
村上祐貴(長岡工業高等専門学校) |
連名者4 |
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連名者5 |
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キーワード |
a half cell potential、chloride adsorption agent、macro-cell corrosion、residual chloride ion、マクロセル腐食、塩分吸着剤、残留塩化物イオン、自然電位 |
巻 |
38 |
号 |
1 |
先頭ページ |
897 |
末尾ページ |
902 |
年度 |
2016 |
要旨 |
本研究では,「塩分吸着剤」を添加した補修材を用いて断面修復を施した際の補修部の自然電位に及ぼす既設コンクリートの残留塩化物イオンの影響について検討した。残留塩化物イオン濃度の異なる既設コンクリートに,「塩分吸着剤」を添加した補修材を主として,5種類の補修を施した試験体を作成し,乾湿繰返し試験を実施した。その結果,補修部の自然電位は,既設部の残留塩化物イオン量の影響を受け,自然電位が卑側の値を示す傾向にあった。また補修部境界近傍の腐食量は自然電位との相関が認められた。 |
PDFファイル名 |
038-01-1145.pdf |