種別 |
論文 |
主題 |
水分浸透抵抗性を向上させるケイ酸ゲルの生成メカニズムに関する基礎研究 |
副題 |
|
筆頭著者 |
加藤諄(名古屋工業大学) |
連名者1 |
吉田亮(名古屋工業大学) |
連名者2 |
近藤政晴(名古屋工業大学) |
連名者3 |
藤正督(名古屋工業大学) |
連名者4 |
|
連名者5 |
|
キーワード |
colloidal silica、condensation、dispersion、electric double layer、gel、porosity、コロイダルシリカ、ゲル、空隙、電気二重層、分散、凝集 |
巻 |
43 |
号 |
1 |
先頭ページ |
1055 |
末尾ページ |
1060 |
年度 |
2021 |
要旨 |
ケイ酸塩系表面含浸材として使用されるコロイダルシリカ(以下、CS)が、セメント硬化体中の空隙で液相の水酸化カルシウムと混合して生成する凝集ゲルについて、試験管内における混合実験により検討をした。CSの濃度が100〜60%の場合、ゼータ電位の絶対値が小さくなるため、水酸化カルシウムと混合すると、CSを緻密に凝集したゲルが生成された。一方で、CSの濃度を50〜10%に薄めた場合、ゼータ電位の絶対値が大きくなるので、水酸化カルシウムと混合したとき、CSが分散しているため体積の大きなゲルを生成した。生成されたゲルはいずれもセメント硬化体内の空隙を閉塞するのに十分な大きさであり、吸水抵抗性を高めていることが示唆された。 |
PDFファイル名 |
043-01-1173.pdf |